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tio2)之类的其他材料包括使得它们更适用于操纵光学波振面的更高的折射率，但是这种材料对以5:1至10:1之间的更高纵横比进行制造提出了挑战。下面的表2提供了不同材料的概况，包括它们的折射率、比较大效率的厚度、比较大散射效率、以及可见范围中的光吸收，深圳zemax 菲涅尔透镜。比较大散射效率是通过使用周期性透射sws作为将垂直入射的平面波偏转到特定衍射级的模型系统计算得出的。从表2可以看出，诸如硅和锗之类的材料具有较好的散射效率和高反射率。但是，这些材料还会由于它们的小带隙而吸收可见范围中的光(并且还将部分地吸收近红外波长)。诸如氧化硅和氧化铝之类的材料在可见范围中几乎是透明的，但是具有较低的散射效率，深圳zemax 菲涅尔透镜，因此限制了它们作为sws材料候选的有用性。诸如氮化硅和氧化钛之类的材料提供了散射效率和低光吸收率的良好混合，深圳zemax 菲涅尔透镜。根据实施例，在实现对于**造成本至关重要的高制造吞吐量的同时，制造在可见和/或红外范围中将高光约束和低光吸收结合在一起的新型sws设计(这里称为“元原子(metaatom)”)。图8示出了根据实施例的具有圆柱形状的示例元原子800，其中，芯材804被薄壳材806围绕。元原子800被制造在vcsel结构的**层802上。**层802可以是vcsel结构的发出光的任意层。菲涅尔透镜常见问题有哪些？深圳zemax 菲涅尔透镜
由于激光斑点的出现从一开始(实际上在图像捕捉时，通过激光源设计)就被管理或以其他方式减少，所以也消除或以其他方式降低了对于捕捉图像上的基于斑点的后处理的需求。根据实施例，用在结构化光投影仪中的激光源包括衬底、布置在衬底上的一个或多个***vcsel、以及布置在衬底上的一个或多个*二vcsel。一个或多个***vcsel各自具有***孔径宽度，并且各自单独地在衬底的表面上延伸。一个或多个*二vcsel各自具有不同于***孔径宽度的*二孔径宽度，并且各自单独地在衬底的表面上延伸。使用具有不同孔径宽度的vcsel的阵列提供了具有不同波长的发射辐射，从而提供了不同的斑点图案。当在检测器上被接收时不同的斑点图案被平均，此时斑点噪声被减少或基本消除。从各种vcsel结构发射的光可以被调制，以在物体上形式特定图案(网格、点阵等)。调制可以包括创建相长干涉和相消干涉的区域，以有效地将光输出“图案化”为任何期望的图案。可以使用各种技术对光进行调制，这些技术包括诸如透镜和衍射元件之类的光学组件的结合。但是，本文描述的实施例将包括两种或更多材料的亚波长结构(sws)直接集成到vcsel结构上以操控光输出。深圳菲涅尔透镜ledled菲涅尔透镜材料模板有哪些？
并且每个*二vcsel结构单独地在衬底的表面上方延伸。本申请另一方面提供了一种激光源。该激光源包括：衬底；vcsel结构，vcsel结构在衬底的表面上并且在衬底的表面上方延伸，vcsel结构具有**层；以及多个亚波长结构，多个亚波长结构在vcsel结构的**层上，其中，多个亚波长结构中的一个或多个亚波长结构包括芯材和壳材，壳材在芯材的一个或多个表面。附图说明参考附图，随着下面的详细描述的继续，请求保护的主题的实施例的特征和优点将变得明显，在附图中：图1示出了根据本公开的实施例配置的光投影仪系统。图2提供了根据本公开的实施例配置的光投影仪系统的更详细的图示。图3示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的自**向下的视图。图4示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的侧视图。图5提供了根据本公开的实施例的具有不同孔径宽度的设备的示例激光光谱。图6示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的自**向下的视图。图7示出了根据本公开的实施例的具有亚波长结构的光源的一部分的侧视图。图8示出了根据本公开的实施例的亚波长结构的更详细的视图。图9a至9c示出了根据本公开的实施例的示例亚波长结构。
可以确定在***多个vcsel结构和*二多个vcsel结构之间的孔径宽度的大小，使得从发射的辐射生成任意数目的不同横向激光模式和斑点模式。通过从具有不同孔径宽度的vcsel结构发射辐射，可以降低斑点噪声。在使用具有两个不同孔径宽度的两组vcsel结构的示例中，斑点噪声降低大约可以使用附加的vcsel结构阵列，其中每个阵列具有不同的孔径宽度，以将斑点噪声降低因数其中n是不同vcsel阵列的数目。接着，在操作1106，在由***和*二vscel结构发射的辐射被从物体反射出来之后，在检测器处接收该辐射。所接收的辐射可被用来定义物体的数字3d图像。当然，在一些实施例中，如先前结合系统所描述的，可以执行附加操作。具体地，辐射可以从与***和*二多个vcsel结构布置在相同衬底上的*三多个vcsel结构发射。*三多个vcsel结构中的每个vcsel结构包括不同于***和*二多个vcsel结构的孔径宽度的孔径宽度，使得从*三多个vcsel结构发射的辐射产生了不同于***和*二斑点图案的*三斑点图案。除非一其他方式明确声明，否则可以明白的是，诸如“处理”、“计算”、“运算”、“确定”之类的术语指的是计算机或计算系统或类似电子计算设备的动作和/或处理。负菲涅尔透镜生产厂家电话多少？
这些对本实用新型权利要求进行改进和等同替换后的技术方案，均落入本实用新型的保护范围。本实用新型的多功能二维声学**材料透镜是通过电机控制c型单元结构，进而控制折射率变化的方法实现的。如图1所示，本实用新型提供的声学**材料透镜，包括基底材料层以及等间隔镶嵌在基底材料层上的若干c型单元**材料阵列，c型单元**材料阵列均由若干个c型单元结构周期性排列而成，其周期尺寸为a，c型单元结构为可旋转单元结构。为了实现在同一c型单元结构上获得不同的折射率，本实用新型设计了一种c型单元结构如图2所示，图2(a)为c型单元结构俯视图，其中外半径为r，圆环宽度为w，开口角度为θ，旋转角度为图2(b)为c型单元结构安装示意图，在基底材料层上开设有与c型单元结构匹配的圆环形凹槽，c型单元结构一端镶嵌在凹槽中，可在凹槽中做旋转运动，且可以由电机控制沿逆时针方向(本实施例中以逆时针方向旋转为例，其也可以顺时针旋转)精确地旋转角度c型单元结构的材料设置为光敏树脂，其密度为1388kg/m3，声速为716m/s。根据1999年pendry提出的等效媒质理论，当相邻两个c型单元结构间距远小于波长时，即小于十分之一波长时，就可以把c型单元结构当成等效均匀媒质。菲涅尔透镜的焦距答疑解惑；深圳菲涅尔透镜片
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图3示出了根据实施例的光源202或者光源202的至少一部分的自**向下的视图。光源202包括衬底302，该衬底具有布置在衬底302的表面上的多个vcsel结构304。在一些实施例中，衬底302可以是：包括*iv族半导体材料(例如，si、ge、sige)、*iii-v族半导体材料(例如，gaas、gaassb、gaasin)、和/或根据本公开将明白的任何一种或多种其他适当材料的大块衬底；绝缘体上的x(xoi)结构，其中，x是前述材料(例如，*iv和/或iii-v族半导体材料)之一，绝缘体材料是氧化物材料或介电材料或者一些其他电绝缘材料，从而xoi结构包括两个半导体层之间的电绝缘材料层；或者一些其他适当的多层结构，其中，**层包括前述半导体材料(例如，*iv和/或iii-v族半导体材料)之一。这里使用的“*iv族半导体材料”(或“*iv族材料”或统称“iv”)在包括至少一种*iv族元素(例如，硅、锗、碳、锡)，例如，硅(si)、锗(ge)、硅锗(sige)等。这里使用的“*iii-v族半导体材料”(或“*iii-v族材料”或统称“ii-v”)包括至少一种*iii族元素(例如，铝、镓、铟)和至少一种*v族元素(例如，氮、磷、砷、锑、铋)，例如，砷化镓(gaas)、砷化镓铟(ingaas)、砷化铝铟(inalas)、磷化镓(gap)、锑化镓(gasb)、磷化铟。深圳zemax 菲涅尔透镜
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